谭平《场域绘画》系列，余德耀美术馆展览现场，2019年

余德耀美术馆日前推出艺术家谭平的回顾展“双重奏”，由著名美术史家、艺评家巫鸿担任策展人。本次展览是对艺术家谭平35年创作生涯基于当下的一次回溯和梳理。展览中40余件绘画、版画、场域绘画及视频，追溯艺术家的成长、生活和思考历程，经由个体生命的经验和视角观察其个人艺术的演变。

谭平《覆盖——黄色》，布面丙烯，160×200cm，2013年

仅以一刀刻划出的作品《+40cm》，简洁的白线贯穿余德耀美术馆55米长的展厅一侧，而与之相对的另一侧，由5组30件作品所形成“行动与思考的交叠线”，打破线性叙事，见证艺术家对媒介和语言的探索历程。有别于其他回顾展，“双重奏”不以时间性的单向逻辑呈现，而是以艺术家特有的思维和工作方式切近对语言和现实的理解。

谭平《平衡》，布面油彩，47×70cm，1993年

谭平作为重要的中国当代艺术家之一，他的成长始终在中国当代艺术发生、发展的现场当中；而他对始终陪伴左右的创作形式——版画和绘画这两种语言和媒介的探索，恰恰又与时代的精神轨迹形成了同样的双重交错。

谭平《素描》，炭笔，79×109cm，2014年

1980年，谭平正式进入中央美术学院版画系学习；1984年，他毕业留校任教。1989年，他前往柏林艺术大学留学，从这个阶段的创作可见，如油画《平衡》（1993年）和多幅铜版画《无题》（1990-1992年），他已经开始尝试版画“独幅性”的探索，不断尝试赋予版画创作过程更多开放性。一直到1996年左右，这期间的很多版画作品既是一个完整的系列，也可以无止境地延续下去，开启他对“铜版画概念的修正期”。

谭平《无题》，布面丙烯，80×100cm，2018年

1994年6月，谭平在德国获硕士学位和Meisterschule学位后返回中国。1995年，他作为美院青年教师开始筹建中央美术学院设计专业，参与设计学院课程设置。

此次展览中，最为简约却又极具视觉冲击的作品是木刻版画《+40m》，艺术家采用单纯而原始的形式，以一把圆口木刻刀，历时6小时，全神贯注，一气呵成。刻刀与木板接触的瞬间如同划开弹性的皮肤，徐徐行刀，不断前行，以刀代笔，沉入生命的“时刻”。

2014年开始，谭平的创作刻意融合空间、时间、行动和在场等要素，“场域绘画”成为其重要的创作形式。他将画室未完成的“作品”有计划地置入特定的展示空间，艺术家在现场佐以身体律动，将画面中的色块和线条向画外的白墙蔓延，画面与白墙之间有缝合，有渗透，有对空间尺度的考量。消解画面边缘逐步成为谭平创作的核心。

据悉，此次展览将展至2019年9月22日。

编辑 李林夕