国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院回应

近期，一则消息在各大视频平台广为传播，称清华大学EUV项目把ASML的光刻机巨大化，实现了光刻机国产化，并表示这个项目已经在雄安新区落地。

对此，中国电子工程设计院有限公司（下称中国电子院）9月18日发声，称该项目并非网传的国产光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源项目（HEPS）。

北京高能同步辐射光源项目实拍图。图片来源：中国电子院

北京高能同步辐射光源项目坐落于北京怀柔雁栖湖畔，是国家“十三五”重大科技基础设施，它是我国第一台高能量同步辐射光源，也是世界上亮度最高的第四代同步辐射光源之一。该项目早在2019年就开始建设，将于2025年底投入使用。

中国电子院解释称，HEPS可以看成是一个超精密、超高速、具有强大穿透力的巨型X光机，它产生的小光束可以穿透物质、深入内部进行立体扫描，从分子、原子的尺度多维度地观察微观世界，HEPS是进行科学实验的大科学装置，并不是网传的光刻机工厂。

（综合中国电子院、澎湃新闻）

（原标题《国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院回应》）

编辑 钟诗婷 审读 刘春生 二审 郑蔚珩 三审 周斐斐